건식식각과 습식식각 차이｜Etching 비교
건식식각과 습식식각 차이는 플라즈마와 화학용액을 이용하는 제거 방식에 있습니다. 건식식각과 습식식각의 원리부터 이방성·선택비·미세패턴 형성 능력과 반도체 공정별 활용 기준까지 비교…
식각 Etching이란? 웨이퍼 제거 공정
식각 Etching이란 반도체 웨이퍼에서 포토레지스트 패턴을 기준으로 불필요한 박막을 선택적으로 제거하는 공정입니다. 습식·건식 식각의 차이와 플라즈마 식각, 선택비·이방성이 중요…
EUV란? 초미세 반도체 노광 원리
EUV란 약 13.5nm 파장의 극자외선을 이용해 웨이퍼에 초미세 반도체 패턴을 형성하는 노광 기술입니다. EUV 광원과 반사형 광학계, 마스크의 원리부터 미세공정에서 중요한 이유…
노광이란? 반도체 회로 패턴 전사 원리
노광이란 빛을 이용해 반도체 회로 패턴을 포토레지스트가 도포된 웨이퍼에 전사하는 공정입니다. 노광장비와 레티클의 역할부터 DUV·EUV 기술, 미세 패턴의 해상도와 정렬이 중요한 …
계기용 변압기 PT란? 고전압 계측 원리
계기용 변압기 PT란 고전압을 계전기와 계측기가 사용할 수 있는 낮은 전압으로 변환하는 장치입니다. 계기용 변압기 PT의 전압변환 원리와 변압비·정격부담·오차 특성, CT와의 차이…
절연변압기란? 회로를 분리하는 원리
절연변압기란 1차측과 2차측을 전기적으로 직접 연결하지 않고 자기적으로 에너지를 전달하는 장치입니다. 절연변압기의 갈바닉 절연 원리와 1:1 변압기 구조, 안전·노이즈 측면의 특징…
Motion Profile이란? 위치·속도·가속도 계획 원리
Motion Profile이란 서보축이 목표위치까지 이동할 때 위치·속도·가속도·감속도를 시간에 따라 계획하는 방법입니다. Trapezoidal과 S-Curve Profile의 원…
Gantry Control이란? 두 모터 동기제어 원리
Gantry Control이란 하나의 기계축을 두 개의 서보모터로 구동하면서 양쪽 위치와 속도를 동기화하는 제어방식입니다. Master·Slave와 오차보정 원리를 알아봅니다. G…
Overtravel Limit란? 서보축 이동범위 제한 원리
Overtravel Limit란 서보축이 허용된 이동범위를 넘어가지 않도록 정방향·역방향 한계위치를 감시하는 기능입니다. Limit Sensor와 Software Limit의 동작…